A01-01-5232
Mask Cleaning Kit 52×30mm (1t) 5 Slot
4개 EA
85,800원
마스크 클리닝 키트
DAU-WWAFEMAC
마스크 클리닝 키트
Mask Cleaning Kit
Mask Cleaning Kit은 반도체 제조, MEMS 공정, 광학 리소그래피 작업에서 포토마스크의 청결도를 유지하고 안전하게 보관하는 데 사용됩니다. 52×30mm(1T) 표준 규격 마스크를 5개까지 동시에 관리할 수 있으며, 마스크 표면 오염 제거 및 손상 방지 기능을 제공합니다. 반도체 공정의 수율 향상과 패턴 전사 정밀도 유지에 필수적인 도구입니다.
마스크 클리닝 키트Mask Cleaning KitDAU-WWAFEMACWafer Handling[웨이퍼 취급]
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상품 설명
Mask Cleaning Kit은 52×30mm(1T) 크기의 포토마스크를 5개 슬롯에 보관하고 세척할 수 있는 웨이퍼 핸들링 도구입니다. 반도체 제조, MEMS 공정, 광학 리소그래피 작업에서 마스크의 청결도를 유지하고 안전하게 보관하는 데 사용됩니다. 5슬롯 구조로 여러 장의 마스크를 동시에 관리할 수 있으며, 마스크 표면 손상을 방지하는 설계로 제작되었습니다. 반도체 공정의 수율과 패턴 정밀도에 직접적인 영향을 미치는 마스크 관리 작업에 필수적인 도구입니다.
핵심 규격
- 시료 Size
- 52×30 mm
- 마스크 두께
- 1T
- Slot 수
- 5 Slot
상세 규격표
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상세 규격 표
| 카탈로그넘버 | Model | 시료 Size | Slot 수 |
|---|---|---|---|
| DAU-WWAFEMAC-P001E1 | 카탈로그 확인 필요 | 52×30 mm, 1T | 5 Slot |
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FAQ
이 제품의 주요 용도는 무엇인가요?
반도체 및 MEMS 공정에서 사용하는 52×30mm(1T) 크기의 포토마스크를 세척하고 안전하게 보관하는 클리닝 키트입니다.
몇 개의 마스크를 동시에 관리할 수 있나요?
5개 슬롯 구조로 마스크 5장을 동시에 보관하고 세척할 수 있습니다.
어떤 규격의 마스크에 사용할 수 있나요?
52×30mm(1T) 크기의 표준 포토마스크에 사용할 수 있도록 최적화된 사양입니다.
