웨이퍼, 마스크 클리닝 킷, PTFE

웨이퍼, 마스크 클리닝 킷, PTFE - DAU-WWAFEMAB

DAU-WWAFEMAB

웨이퍼, 마스크 클리닝 킷, PTFE

Wafer / Mask Cleaning Kit

반도체 웨이퍼 제조 공정, 포토마스크 세척, MEMS 소자 전처리, 광학 부품 클리닝 등 고순도 세척이 필요한 실험실 작업에 사용됩니다. PTFE 재질로 산/염기/유기용매에 내성이 있어 다양한 화학 세척 프로토콜에 적용 가능하며, 슬롯 수에 따라 소량 연구개발부터 대량 생산 전처리까지 대응할 수 있습니다.

웨이퍼, 마스크 클리닝 킷, PTFEWafer / Mask Cleaning KitDAU-WWAFEMABWafer Handling[웨이퍼 취급]

단위

EA

재고

주문 가능

옵션

8종

가격 범위

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76,000원 ~ 105,200원

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8개

A01-01-1024

Mask Cleaning Kit 10mm, 24slot PTFE

20개 EA
76,000원

A01-01-2004

Mask Cleaning Kit 20mm, 4slot PTFE

5개 EA
76,000원

A01-01-3008

Mask Cleaning Kit 30mm, 8slot PTFE

23개 EA
76,000원

A01-01-4008

Mask Cleaning Kit 40mm, 8slot PTFE

27개 EA
76,000원

견적요청 상품

선택한 옵션 0개

상품 설명

토미헤코 Wafer / Mask Cleaning Kit는 반도체 웨이퍼와 포토마스크 세척 작업을 위한 PTFE 재질의 전용 킷입니다. 10mm×10mm부터 50mm×50mm까지 다양한 시료 크기에 대응하며, 2~24개의 슬롯 옵션으로 작업 규모에 맞춰 선택할 수 있습니다. PTFE(불소수지) 재질로 제작되어 화학적 내성이 뛰어나며, 고순도 세척 공정에서도 오염 위험이 없습니다. 마스크 두께 1t~2t 이하 시료를 안정적으로 고정하고, 각 규격별로 적합한 비커 사이즈(50ml~400ml)가 지정되어 있어 효율적인 세척 작업이 가능합니다. 반도체, MEMS, 광학 소자 제조 공정의 실험실 환경에 최적화되어 있습니다.

핵심 규격

재질
PTFE
시료 크기
10×10mm ~ 50×50mm
마스크 크기
10~50 mm

상세 규격표

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상세 규격표 1

카탈로그넘버ModelSize (w×d×h)Mask (mm)시료두께Slot수
DAU-WWAFEMAB-P006E1카탈로그 확인 필요40×52×14 mm10 ~ 50 mm1 t 이하13
DAU-WWAFEMAB-P007E1카탈로그 확인 필요2 t 이하8

상세 규격표 2

카탈로그넘버ModelSize (w×d×h)Chip (w×d×h)Slot수
DAU-WWAFEMAB-P008E1카탈로그 확인 필요48×43×10 mm43×10×6 mm2

상세 규격표 3

카탈로그넘버Model시료 Size (w×d)사용비커Slot수
DAU-WWAFEMAB-P001E1카탈로그 확인 필요10×10mm250 ml24
DAU-WWAFEMAB-P002E1카탈로그 확인 필요20×20mm50 ml4
DAU-WWAFEMAB-P003E1카탈로그 확인 필요30×30mm150 ml8
DAU-WWAFEMAB-P004E1카탈로그 확인 필요40×40mm250 ml
DAU-WWAFEMAB-P005E1카탈로그 확인 필요50×50mm400 ml

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FAQ

이 킷의 주요 용도는 무엇인가요?

반도체 웨이퍼와 포토마스크를 화학 용액으로 세척할 때 시료를 안정적으로 고정하고 처리하는 전용 킷입니다. PTFE 재질로 고순도 세척 공정에 적합합니다.

어떤 크기의 시료를 처리할 수 있나요?

10×10mm부터 50×50mm까지 5가지 시료 크기에 대응하며, 마스크 두께는 1t 또는 2t 이하를 지원합니다. 슬롯 수는 2개부터 24개까지 8종 규격으로 제공됩니다.

어떤 비커와 함께 사용하나요?

시료 크기에 따라 50ml(20mm), 150ml(30mm), 250ml(10mm, 40mm), 400ml(50mm) 비커를 사용합니다. 각 규격별로 최적화된 비커 용량이 지정되어 있습니다.

PTFE 재질의 장점은 무엇인가요?

PTFE는 화학적 내성이 매우 우수하여 산, 염기, 유기용매에 거의 영향을 받지 않습니다. 고순도 세척 공정에서 오염원이 되지 않아 반도체 실험실에 필수적인 소재입니다.

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